產品簡介

沈陽科儀高真空磁控濺射薄膜沉積系統--TRP450

真空室結構:圓筒形前開門

真空室尺寸:φ450x400mm

極限真空度:≤6.6E-6Pa

沉積源:永磁靶3套，2英寸，可以向上濺射或向下濺射。

樣品尺寸，溫度:φ4英寸，1片，最高800C

占地面積(長x寬x高):約1米x1.8米x2米

電控描述:全自動

工藝:片內膜厚均勻性:≤3%

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